聯系電話：
010-5637 0168-696
真空主動隔振平臺ZVI-VB系列
特點
空氣彈簧支撐，磁負剛度機構
機械式倒立擺負剛度機構并聯正剛度機構
適用1E-4Pa的真空環(huán)境
6自由度主動隔振
主動隔振帶寬低至0.5Hz起
標品負載最大支持7000KG
水平向電機峰值推力高達160N
總體規(guī)格（長、寬、高）多種規(guī)格可選
核心控制系統全部自研
核心部件國產化
技術指標
主動隔振帶寬：0.5-150Hz
臺面穩(wěn)定性：≤±5um
傳遞率：≤-20dB@2Hz，≤-35dB@5Hz，≤-50dB@10Hz
水平向電機峰值推力高達270N
系統支持最大功率400W
臺面平面度：NTBP：0.02-0.05mm/600mm ×600mm
NTBK：0.1mm/600mm×600mm
大理石臺面：0級、1級、2級、3級可選（GB/T20428-2006）
臺面厚度：100/200/300mm
孔徑：可定制孔徑
孔距：可定制孔距或特殊位置打孔
標品單腿最大承載能力：1800Kg
真空主動隔振平臺ZVI-VB系列命名規(guī)則
選型表：（M、K、P參考具體臺面信息）
產品型號 | 整體規(guī)格（L*W：mm） | 臺面上負載要求（kg） | 臺面厚度（mm） | 隔振器規(guī)格 (L*W*H:mm) | 單腿重量 |
ZVI-VB-30-15M | 3000×1500 | 100-2000 | 400 | 1060×900×202 | 40kg |
尺寸圖：
型號 | 尺寸（ mm） | ||||
L | W | T | H1 | H2 | |
ZVI-VB-30-15M | 3000 | 1500 | 400 | 900 | 500 |
相關案例：
光刻機：確保光刻膠的精確涂布和曝光。
刻蝕設備：在納米精度上進行精確加工，確保芯片電路的完整性。
下一篇：一體式/桌面式主動隔振平臺
